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旋涂機涂覆機

簡要描述:廣州金程科學儀器公司供應的旋涂機涂覆機 (spin coater)是一種薄膜制備設備。 在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,在離心力 作用下,使膠液均勻地涂覆在基片表面上形成均 勻的薄膜。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、 化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片, 基 片 ,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

  • 產(chǎn)品型號:MSC/SC1/SC2
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-08-27
  • 訪  問  量:979
詳細介紹
品牌CIF產(chǎn)地類別國產(chǎn)

廣州金程科學儀器公司供應的旋涂機涂覆機,是一種薄膜制備設備,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結(jié)構(gòu)緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。

 

旋涂機原理:

旋涂機 (spin  coater)是一種薄膜制備設備。 在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,在離心力 作用下,使膠液均勻地涂覆在基片表面上形成均 勻的薄膜。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、 化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片, 基 片 ,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

 

旋涂機應用領域:

半導體器件制備: 制備晶體管、太陽能電池、光伏器件等半導體器件的電極、介質(zhì)和敏感層材料。

 

光電子器件制造: 制備液晶顯示器、OLED  顯示器、LED 器件等光電子器件的薄膜材料。

 

生物醫(yī)學傳感器制造:生物醫(yī)學傳感器的敏感材料,如蛋白質(zhì)、 DNA 和細胞等。

 

納米材料制備:制備納米粒子、納米線和納米薄膜等材料,其制備過程對材料結(jié)構(gòu)和形貌具有一定的控制作用。

 

 

旋涂機特點

◆ 采用閉環(huán)控制伺服電機,數(shù)字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。

◆ 7寸全彩中英文互動操作觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可 選配20個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,最多100個階段。

◆ 內(nèi)置水平校準裝置,最大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。

◆ 多重安全保護

電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證安全;

蓋子自鎖功能,防止飛片蓋zi彈開傷人;

雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,最大限度保證實驗人員安全。

◆ 樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護,有效降低電機進膠的風險。

◆ 一機兩用,根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。

◆ 符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設計,取放樣品更方便。

◆ 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用PTFE 材料。旋涂托盤采用聚丙烯 (NPP-H)  材料,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

◆ 上下雙腔體設計,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結(jié)構(gòu)設計便于收集膠液,并帶廢膠收集裝置。

◆ 可選氮氣吹掃、氮氣保護,自動滴膠或簡易滴膠裝置,提供更多的操作便利性。

◆ 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP等多種材料。

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旋涂機技術(shù)參數(shù)

 

型號

MSC

SC1

SC2

轉(zhuǎn)速

0-10000rpm

0-10000rpm

0-10000rpm

加速度

0-10000rpm/s

0-10000rpm/s

0-10000rpm/s

轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度

±1%

±1%

±1%

勻膠時間

0-9999s

0-9999s

0-9999s

工作艙直徑

直徑180mm

直徑180mm

直徑240mm

基片尺寸

圓片φ≤6時,方片最大

105x105mm

圓片φ≤6時,方片最大

105x105mm

圓片φ≤8時,方片最大 140x140mm

外型尺寸

L245xW325xH215mm

L245xW325xH285mm

L305xW385xH285mm

包裝尺寸

L365xW445xH335mm

1365xW445xH405mm

L425xW505xH405mm

整機重量

6.3Kg

7.6Kg

11.6Kg

 

 

旋涂機涂覆機信息由廣州金程科學儀器有限公司為您提供。


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